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Local Scrubber废气处理特性
半导体工艺中常使用的化学物质及其副产物,一般依照其化学特性与其不同的影响范围,可分为:
1.易燃性气体如SiH4、H2等
2.毒性气体如AsH3、PH3等
3.腐蚀性气体如HF、HCl等
4.温室效应气体如CF4、NF3等
致使上述两类混合的有毒甲烷乙炔气对生活环境或人体皆拥有必要的风险性性,必要放到其就直接尾气排放标准大方得体中,，往往,基本上半导体机行业厂都以可以加装部件实现超大型中间排放物处里控制系统性.但此控制系统性仅以水洗條排放物.故其技术应用超范围局限于于处里水可溶混合的有毒甲烷乙炔气,没有办法因应蒸蒸日上且分工负责明显的半导体机行业加工排放物.往往必要基本原则各加工所衍化出的混合的有毒甲烷乙炔气特质类形,决定组合相对于应的排放物处里机,就能很好彻底解决排放物困难.而致使事业城市内也是离中间排放物处里控制系统性前,常因混合的有毒甲烷乙炔气特质导至管道中沉淀或焊接烟尘堆放,发生管道网络堵塞，网络响应过慢或许卡死后导至混合的有毒甲烷乙炔气渗漏,重要者甚至是引发爆出,没有办法狠抓实地现场事业员工之事业平安.往往在事业城市内需性能是和加工混合的有毒甲烷乙炔气特质的不同规格的中小型排放物处里机(Local Scrubber),以提高在事业城市内限制出境的排放物,狠抓员工平安。
半导体工艺废气处理方式
依据废气处理的特性,在处理可分为四种处理方式:
1、水洗式(处理腐蚀性气体)
2、氧化式(处理燃烧性,毒性气体
3、吸附式(干式)(依照吸附材种类处理对应之废气）
4、等离子燃烧式(各类型废气皆可处理)
Scrubber排放进行整理裝置可进行整理甲烷气体类型涉及到半导体设备、液晶拼接屏并且 阳光直晒能等行业中中蚀刻制造与化学上气相色谱仪形成制造中食用的特气，重要涉及到SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等。
