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CVD(化学气相沉积) 配置特气柜的好处

2020-10-28 10:45:54    责任编辑: 特气柜设计制造公司     0

在反应室里,气态反应物经化学反应生成固态物质并沉积在硅片表面的薄膜沉积技术,被称为CVD(化学气相沉积)。它有一个基本特征:CVD工艺中反应物必须以气相形式参与反应,配置特气柜的好处就体现在这上面。



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