半导体材料晶圆厂在晶圆造成制造中在使用到的生物元素类非常多，使用到的原原材料或副代谢物有很多种造成损害性乙炔气，在制造后出現残渣将成为工业废气，废气正确治疗装置(Local Scrubber)放置的，那就是要正确治疗就其这种的造成损害性乙炔气。

半导体制程中使用气体

标准关联标准爆破极限值在百分之三十下例或爆破累计与极限值之差在百分之一十上面的之的气体，在光电器件厂安全使用的有：AsH3、B2H6、SiH4、SiH2Cl2、Si2H6、SiHCl3、GeH4、PH3、NH3、H2、H2Se、H2S等；前提条件相关内容法律规定允许密度在上百万分之一百左右之致癌性气态在半导体行业厂动用的有：AsH3、AsCl3、B2H6、BF3、CL2、SiH4、SiF4、NH3、CCl4、HBr、HF、PCl3、POCL3、GeH4、PF3、HCl、PH3、H2Se、H2S等。

在其中例如多异常塑料与氢化物如SIH4、WF6等产物；时以便有效控制机台的气温有效控制、抗生物学想法的保养与异常所需，也会食用较夺氧分子的PFCs等温室气态。一些危及性性气态及全氟氧化物，有众多是具四项上述之的特点，如碱酸性气态，基本来说 亦时具致癌性;又如PH3则具金属蚀化不锈钢和致癌性外，亦具可燃性，且对周围环境及人的危及很多大。一些制造后残存的气态假如于供水管中想法，轻者有可能诱发空调风管堵塞过、压缩空气管金属蚀化等故障 ，严重的者竟然發生外泄及火灾事故爆破，进行生育的不良后果。

工艺排放解决的设备(Local Scrubber)快速设置重要性

工艺尾气排出处里设施设备(Local Scrubber)设备之意义，只是成了处里譬如此种的不利性有毒气味，让其在洁净厂房室机台端(POU)反响被排出出后，即由正空Pump抽至Local Scrubber做处里，防范在繁杂的排气阀流程中影起非预测的有毒气味泄密，轮廓线聚积或之间反响。待处里后的有毒气味再续接至厂务端做第二种道救治，以可以减少厂务端生态破坏物处里上的承载，达到了对半导体设备业新鲜空气生态破坏监管及排出的规范标准。如果一旦有系统故障而使发生外泄的问题，很有能够会发生各种各样的类型有害如大火我们、工人食物中毒、环境破裂等损坏，厉害时更有能够发生工人事故或生产加工断开等强大财产损失，任何全国各晶圆厂莫不藉由各种各样的类型工作管理行为，来完成工艺氮氧化合物地区治理 装备的有害调控。

综上所述，制程尾气处理设备Local Scrubber设置目的是为了，可以行之有效的处理制程中的有害性气体残留，避免风管堵塞、管路腐蚀、发生泄漏及火灾爆炸，停止生产等问题事故的发生。